多功能紫外納米壓印光刻系統

它是一個(gè)基于模塊化和改進(jìn)的SmartNIL模塊的獨立系統，可以根據處理和自動(dòng)化水平進(jìn)行配置。EVG7300支持從150毫米到300毫米的晶圓尺寸，具有低至300納米的高精度對準，先進(jìn)的過(guò)程控制和高吞吐量，可以滿(mǎn)足各種自由形狀和高精度納米和微光學(xué)元件和器件的先進(jìn)研發(fā)和大批量制造(HVM)需求。為了在HVM環(huán)境中集成預處理和后處理流的必要性，該模塊可以集成到HERCULES NIL系統中

這種多功能系統旨在服務(wù)于廣泛的新興應用，包括微和納米壓印以及功能層的紫外線(xiàn)堆疊。因此，該設備可以增強晶圓級光學(xué)(WLO)，納米光子學(xué)，超表面和生物醫學(xué)芯片的工藝性能。這與行業(yè)對新型光學(xué)傳感器和光電子器件的需求密切相關(guān)，例如自動(dòng)駕駛，汽車(chē)和裝飾照明中的微透鏡陣列和投影儀，生物識別認證的衍射光學(xué)器件以及復雜元透鏡的新興趨勢。利用這項技術(shù)的第一個(gè)應用已經(jīng)存在于先進(jìn)的生物醫學(xué)設備和增強現實(shí)波導領(lǐng)域，其中納米印跡技術(shù)可以實(shí)現復雜設計的高質(zhì)量制造。

特點(diǎn)

· 靈活性:UV- nil系統在一個(gè)工具中實(shí)現三個(gè)UV過(guò)程:SmartNIL, WLO和堆疊

     · 精確控制多步工藝，包括對準，接觸和紫外線(xiàn)固化

     · 用于SmartNIL和WLO的低力自動(dòng)沖壓分離

· 可擴展性:加工高達300mm基板的晶圓

· 模塊化:獨立模塊，以及集成到HERCULES NIL

     · 基材搬運:從手動(dòng)裝載到全自動(dòng)操作

     · 可選的自動(dòng)郵票加載SmartNIL允許連續模式操作

· 高級對齊功能

     · 實(shí)時(shí)校準<±300nm(取決于工藝)

· UV LED燈最高功率500mW/cm2

     · > 90%均勻度

     · 可選:雙波長(cháng)工作:365nm和405nm

     · 不同的曝光模式

· 可選特性

     · 光楔誤差補償(WEC)

     · 溫度控制

· 行業(yè)先進(jìn)的工藝性能

     · 分辨率低至單納米范圍

     · 非常精確的殘余層控制

技術(shù)數據

晶圓直徑（襯底尺寸）：最大300毫米

分辨率：≤10納米（視工藝及材料而定，主料由客戶(hù)提供）

支持的進(jìn)程：Lens Stacking、Lens Molding、SmartNIL®